中研网,中国研磨行业门户网站!
您现在的位置:中研网 > 纳米珠磨机 >

纳米涂料之派勒超细纳米研磨技术交流(6)

作者:admin   来源:www.cnsanme.com   中研网   更新时间:2017-07-20 10:50

 3)研磨桶需有大面积热夹套层设计,以利于将热量带走并控制良好研磨浆料温度。

    4)研磨桶内,所有与浆料接触部分材质需适当地选择以避免污染问题产生。如金属离子析出等问题,…

    4.现有设备来源

    因为纳米级粉体研磨需使用小磨球﹑高转速﹑高能量密度等,同时亦需避免污染产生,一般欧洲厂牌设备较适合。当然,若读者已有国产或日制设备,则可以以现有设备做粗磨工艺,然后以欧洲设备做最后一阶段超细纳米研磨,达到”物尽其用”的最佳应用。

    5.应用实例及注意事项

    上述原理及方法,笔者已有逾百厂实绩,主要应用领域如下:

    1)Colorpaste/Colorfilter/TFTLCD:

    R﹑G﹑B﹑Y及BM已成功地分散研磨到纳米级,透明度需超过90%,粘度控制在5-15CPS,

    含水率在1%以下。

    2)Ink-jetInks:

    颜料型Ink-jetInks已成功地分散研磨到纳米级,粘度控制在5CPS以下。

    3)CMP(chemicalmechanicalpolish)slurry:

    半导体晶片研磨所需之研磨液粒径已达纳米级且能满足无金属离子析出要求。

    4)TiOPc(opticalcontact):

    应用于雷射列表机光鼓上所涂布光导体,已研磨分散到纳米级。

    5)纳米级粉体研磨,如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…,

    可分散研磨到30nm。

    6)纳米级粉体分散。如将纳米粉体分散到高分子,或将纳米级粉体添加到塑胶﹑

    橡胶等进行分散。

    7)医药达到纳米级要求,且需能满足FDA要求。

    8)食品添加剂达到纳米级之要求。如β胡萝卜素…,需满足GMP要求。

    9)电子化学品达到纳米级需求,且需能满足无金属离子析出问题。

    10)其他。

    6.结论与建议

    由上述可以得知”大流量﹑小磨球”为纳米级粉体研磨主要依循法则。若欲满足细﹑快﹑更少污染﹑”纳米级粉体研磨要求,需满足下列条件:

    1)先认清研磨材料之特性要求。

    2)根据材料特性要求找到适当研磨机。

    3)搭配适当配套设备,如冰水机﹑压缩空气机、预搅拌机及移动物料桶﹑…等。

    4)找到合适产品的助剂。

    5)与上﹑下游有完善的沟通,以便调整最佳配方与研磨条件,提高纳米粉体相容性。


相关文章
网站介绍  网站声明  商务合作  联系我们 
友情链接QQ:2877639863| 技术支持:上水网络
Copyright 2015-2018 中研网 版权所有 本站申明:本站部分资料来自网络,如有侵权,请您联系我们,我们会在第一时间将其删除!
中国研磨设备信息网(简称“中研网”),研磨行业门户网站!
苏ICP备15021173号-1  网站地图
您是本站第: